12 吋叢集式 ALD 先進設備發表會暨 ALE/ALD 技術交流研討會

12-inch Cluster ALD Advanced Equipment Launch & ALE/ALD Conference

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財團法人國家實驗研究院客戶個人資料蒐集同意書

本同意書係依據個人資料保護法第八條之規定,於蒐集您的個人資料時進行法定告知義務。

一、蒐集單位名稱:財團法人國家實驗研究院台灣儀器科技研究中心 (以下簡稱本中心)

二、蒐集目的:本中心蒐集您個人資料的目的在於進行活動報名的內部各項統計調查與分析與本中心依法設立之法定義務作業使用。

三、本人同意本人的個人資料用於下列用途:

  • 040 行銷。(只寄 DM 或告知新服務項目)
  • 090 消費者、客戶管理與服務。
  • 091 消費者保護。
  • 098 商業與技術資訊。(電子報)
  • 109 教育或訓練行政。
  • 157 調查、統計與研究分析。
  • 182 其他諮詢服務。(滿意度調查)

四、蒐集個人資料類別:

蒐集個人資料類別屬於法務部定義個人資料保護法蒐集類別,均依主管機關公佈之內容辦理,主要是客戶連絡與客服交易審核等資料 (均詳列於本中心對外服務平台之各項服務訂購或報名系統內),本同意書蒐集以下類別:

  • C001/辨識個人者。
  • C013/習慣。(飲食習慣)
  • C038/職業。
  • C052/資格或技術。(接受本中心服務或優惠之資格)

五、使用期間、地區、對象及方式:

(一) 個人資料之利用期間為本中心或業務之存續期間,利用地區不限。

(二) 利用方式及對象:

1. 利用於本中心於蒐集之目的宣告之各項業務執行,包括因業務執行所必須進行之各項聯繫及通知。

2. 利用於政府機關、目的事業主管機關依其法定職掌請求提供時。

六、個人資料之權利及權益:

(一) 您得依法請求行使個人資料保護法第三條所規範之個人權利,包含:

1. 查詢或請求閱覽。

2. 請求製給複製本。

3. 請求補充或更正。

4. 請求停止蒐集、處理或利用。

5. 請求刪除。

(二) 請求進行之方式,應由當事人以正式書面來函,詳細寫明所欲行使之權利種類、內容以及當事人連絡資訊,未具備上述要件者,為尚未完成請求之程序,本中心得通知當事人補件,並於完成補件後,始完成請求程序,並開始起算辦理期間,以避免因資料不備而不慎或不當損害當事人權利。

七、本中心於蒐集您的個人資料時,如有欄位標示為選擇性填寫,當您選擇不提供該個人資料時將不造成任何之權利影響。

八、本中心保有修訂本同意書之權利,本中心於修正本同意書內容後將且透過您所提供之的聯絡方式通知您,如您未提出異議,表示您已同意本中心所更改之內容。

本人已詳閱以上告知內容,並同意以上之告知內容。

 

活動說明 About Conference

原子層沉積技術 (Atomic Layer Deposition, ALD) 已成為半導體產業的一項主流技術,儀科中心與天虹科技共同研發之 12 吋叢集式 ALD 設備,建立台灣半導體設備關鍵元件自主化的重要里程碑。並於同日舉辦 ALE/ALD 技術交流研討會,讓您掌握未來原子層蝕刻/沉積技術的發展藍圖!

Atomic Layer Deposition (ALD) is one of the most important technologies in semiconductor industry. TIRI and SkyTech developed 12-inch cluster ALD facilities and created an important milestone for customized semiconductor instruments in Taiwan. Same day, you can participate ALE/ALD conference to grasp future ALE/ALD roadmap.


2020年9月8日 (星期二)

國家實驗研究院台灣儀器科技研究中心、天虹科技股份有限公司

新竹市科學園區研發六路 20 號 (國家實驗研究院台灣儀器科技研究中心)

Date: Tuesday, September 8, 2020.

Organizer: Taiwan Instrument Research Institute (TIRI), NARLabs & Skytech Technology Co. Ltd

Venue: 20, R&D Rd. VI, Hsinchu Science Park, Hsinchu 30076, Taiwan. (TIRI, NARLabs)

防疫新生活 安心參加守則
Conference guidelines for health and safety

| 請全程【配戴口罩】未攜帶口罩者,謝絕入場。

| 為維護參觀者健康安全,體溫超過 37.5 度者,謝絕入場。

| 活動採實名制入場,請持【報名憑證Email】,並於活動前將另發送健康關懷表格填寫,方可入場。

| Wearing face mask is required when entering and during the conference.

| To ensure visitors health, one with temperature above 37.5°C, admittance would be declined.

| Conference will be on a real name basis, visitors with “Admission Email” and fill in “COVID-19 Health Questionnaire Survey” before entering.

報名表 Register Here

 
 
 
 

活動議程 Agenda

主辦單位保有議程內容與名額調整更動的權利。

2020年9月8日 (星期二)
Tuesday, September 8, 2020
10:10 - 10:30 報到 Registration
10:30 - 10:50 歡迎致詞 Welcome Remarks
10:50 - 11:05 儀科中心 ALD 技術成果介紹 Development of ALD Technology & Equipment in TIRI
講者:儀科中心 柯志忠 組長
11:05 - 11:15 天虹科技股份有限公司簡介 A Brief Introduction of SkyTech
講者:天虹科技執行長 林俊成 博士
11:15 - 11:25 12 吋叢集式 ALD 設備開發技術說明 12-inch Cluster ALD Equipment Presentation
講者:天虹科技執行長 林俊成 博士
11:25 - 11:50 12 吋叢集式 ALD 設備實體展示 12-inch Cluster ALD Equipment Demo
11:50 - 12:00 儀科中心客製 ALD 設備展示 TIRI Customized ALD Equipment Demo
12:00 - 13:20 客戶經驗與交流分享 Lunch Time
13:25 - 13:30 ALE/ALD 技術交流研討會開場致詞 ALE/ALD Conference Opening Remarks
13:30 - 14:20 題目:ALD Al2O3 在 Mini-LED 及 Micro-LED 上之應用
The Applications of ALD Al2O3 on Mini-LED and Micro-LED
講者:天虹科技執行長 林俊成 博士
14:20 - 15:10 題目:利用儀科原子層沉積系統摻雜Y金屬於二氧化鍺以提升熱穩定性之研究
Enhancing Stability of GeO2 by Doping Yttrium with ALD in TIRI
講者:交通大學電子工程學系 簡昭欣 教授
15:10 - 15:30 茶敘交流 Networking Break
15:30 - 16:00 題目:儀科中心在原子級工程技術發展現況
Development of Atomic Level Engineering in TIRI
講者:儀科中心 陳哲勤 研究員
16:00 - 16:30 題目:Area-selective ALE 技術發展與 ALD 聯合實驗室服務說明
Development of Area-selective ALE Technology and Introduction of ALD Joint Research Laboratories
講者:儀科中心 張展源 助理研究員
16:30 - 16:50 技術交流與問答 Q&A