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儀科中心將於 9 月 20 日舉辦「2018 原子層沉積技術發展與產業應用研討會」，歡迎踴躍報名！
2018/08/23
原子層沉積技術 (Atomic Layer Deposition, ALD) 由於具有極佳的薄膜成長厚度控制性、階梯覆蓋性與大面積均勻性，已成為半導體產業的一項主流技術，本研討會邀請國外前驅物材料專家以及國內知名學者，講演原子層沉積技術與產業相關應用，讓您掌握未來原子層沉積技術的發展藍圖！【研討會議程】
研討會地點︱新竹市科學園區研發六路 20 號 ( 儀器科技研究中心)
主辦單位︱國家實驗研究院儀器科技研究中心
報名人數︱80 人，活動全程【免費】，名額有限，敬請提早報名~
報名網址︱https://goo.gl/WeCsyJ ( 報名截止日到 9/17)
主辦單位︱國家實驗研究院儀器科技研究中心
報名人數︱80 人，活動全程【免費】，名額有限，敬請提早報名~
報名網址︱https://goo.gl/WeCsyJ ( 報名截止日到 9/17)