壹、主旨:

  • 公告本中心研發成果,歡迎業者申請技術移轉。技術移轉對象應符合下列各項規定為原則:
  • 一、有償:以公平、公開及有償方式為之。
  • 二、非專屬:以公立學校、公立研究機關 (構)、公營事業、法人或團體為對象。
  • 三、國內優先:在我國管轄區域內製造使用。

貳、公告事項說明:

公告日期

2019-04-24

技術名稱

高亮度多光譜智慧光照系統開發技術

技術分類

LED、多光譜照明、智慧光源

技術內容

針對高亮度且包含多波長之光源系統進行開發,同時整合智慧調控技術與照明提醒、照射次數記錄等功能,完成一應用於臨床場域,可進行光照治療之多光譜智慧光照系統。

廠商資格

  1. 產業業別:光學儀器製造業、光電儀器製造業、電器產品製造業
  2. 專門技術:光電儀器設計、電子電路設計
  3. 應有機具設備:無
  4. 應有研究或技術人員: 電子工程師、電子元件與系統組裝人員
  5. 無片面毀約不良記錄者。

申請技術移轉廠商應填妥本中心「技術移轉申請表暨技術移轉廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本,向本中心申請。其公司證明文件應包括:
 一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
 二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
 三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
若是新設立廠商得經本中心同意後,免繳或減繳前項(二)、(三)款之文件。

聯絡窗口

蔡心怡小姐  03-5779911 分機 634  kellytsai@narlabs.org.tw
李靜宜小姐  03-5779911 分機 550  gigilee@narlabs.org.tw

如果您有研發成果技轉、運用或利益衝突等相關問題或建議,歡迎您寫Email至:service@tiri.narl.org.tw

公告日期

2018-05-17

技術名稱

離線式鋰電池驅動之智慧閥門操作器應用技術

技術分類

電子電路應用

技術內容

藉由鋰電池高密度儲能特性,使一般電力供應的閥門操作器,在異常斷電狀態下,仍可做動至管路安全狀態。透過長效型電池充電模式與電流分流線路設計,實現鋰電池於離線狀態下驅動閥門操作器之應用技術。

廠商資格

  1. 產業業別:自動化元件、流體控制元件相關產業。
  2. 基礎技術:技術人員需具備電子電機背景,瞭解電壓、電流、功率等電氣特性觀念,具備以上兩種背景,才能進行本技術軟硬體訊號紀錄與功能除錯。
  3. 應有之機具設備:廠商需自備量測設備如三用電表、直流電源供應器、數位式示波器。
  4. 應有技術人員: 2人(含)以上。
  5. 無片面毀約不良記錄者。

申請技術移轉廠商應填妥本中心「技術移轉申請表暨技術移轉廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本,向本中心申請。其公司證明文件應包括:
 一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
 二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
 三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項(二)、(三)款之文件,新設立廠商得經本中心同意後,免繳或減繳。

聯絡窗口

莊文寧小姐  03-5779911 分機 573  wnchuang@narlabs.org.tw
李靜宜小姐  03-5779911 分機 532  0309344@narlabs.org.tw

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公告日期

2017-11-08

技術名稱

客製表面結構圖紋技術報告

技術分類

光學元件

技術內容

藉由表面結構圖紋,於複合介質環境中,實現多光點之光學資訊。

廠商資格

  1. 產業業別:形貌檢測、半導體相關產業。
  2. 專門技術:形貌檢測系統設計、光學成像系統整合。
  3. 應有之機具設備:有形特徵檢測記錄相關硬體。
  4. 應有之研究或技術人員人數: 2人
  5. 無片面毀約不良記錄者。

有意願之廠商請填妥本中心「技術移轉廠商開發計畫書」,並檢附下列文件影本,一式七份,以掛號方式郵寄至本中心統一窗口,作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書,並檢附公司相關證明文件影本,向各單位申請。其公司證明文件應包括:
 一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
 二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
 三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項(二)、(三)款之文件,新設立廠商得經本中心同意後,免繳或減繳。

聯絡窗口

施至柔先生  03-5779911 分機 618  sze@narlabs.org.tw
李靜宜小姐  03-5779911 分機 532  0309344@narlabs.org.tw

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公告日期

2017-08-10

技術名稱

雙電子槍共蒸鍍複合式氧化物保護膜之鍍膜技術

技術分類

半導體元件

技術內容

藉由雙電子槍系統,於真空與中低溫之複合環境中,實現雙電子槍共蒸鍍氧化物保護膜之鍍膜技術。

廠商資格

  1. 產業業別:半導體元件相關產業。
  2. 專門技術:於室溫與100度熱處理後能維持氧化物保護膜之弱導電特性。
  3. 應有之機具設備:雙電子槍系統。
  4. 應有之研究或技術人員人數: 2人
  5. 無片面毀約不良記錄者。

申請技術移轉廠商應填妥本中心「技術移轉廠商開發計畫書」,並檢附公司相關證明文件影本,向本中心申請。其公司證明文件應包括:
 一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
 二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
 三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項(二)、(三)款之文件,新設立廠商得經本中心同意後,免繳或減繳。

聯絡窗口

邱柏凱先生  03-5779911 分機 645  pkchiu@narlabs.org.tw
李靜宜小姐  03-5779911 分機 532  0309344@narlabs.org.tw

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公告日期

2017-04-19

技術名稱

活體生物病徵檢測用之多波域光學成像技術

技術分類

光電系統

技術內容

藉由多波域之光源照明設計,於複合介質環境中,實現活體生物病徵之多層次資訊擷取。

廠商資格

  1. 產業業別:生物檢測、生技相關產業。
  2. 專門技術:生物實驗系統設計、光學成像系統整合。
  3. 應有之機具設備:生物特徵檢測記錄相關硬體。
  4. 應有之研究或技術人員人數: 2人
  5. 無片面毀約不良記錄者。

有意願之廠商請填妥本中心「技術移轉廠商開發計畫書」,並檢附下列文件影本,一式七份,以掛號方式郵寄至本中心統一窗口,作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書,並檢附公司相關證明文件影本,向各單位申請。其公司證明文件應包括:
 一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
 二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
 三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項(二)、(三)款之文件,新設立廠商得經各單位同意後,免繳或減繳。

聯絡窗口

洪敏偉先生  03-5779911 分機 326  niiat@narlabs.org.tw
李靜宜小姐  03-5779911 分機 532  0309344@narlabs.org.tw

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公告日期

2016-05-05

技術名稱

液態前驅物傳輸方式

技術分類

半導體、材料製程

技術內容

本技術應用於ALD系統中前驅物注入腔體管路設計,包含pulse、purge及管路清理等閥門動作。

廠商資格

  1. 產業業別:半導體。
  2. 專門技術:具備半導體相關技術能力。
  3. 應有之機具設備:半導體技術相關設備。
  4. 應有之研究或技術人員人數: 10人
  5. 無片面毀約不良記錄者。

有意願之廠商請填妥本中心「技術移轉廠商開發計畫書」,並檢附下列文件影本,一式七份,以掛號方式郵寄至本中心統一窗口,作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書,並檢附公司相關證明文件影本,向各單位申請。其公司證明文件應包括:
 一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
 二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
 三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項(二)、(三)款之文件,新設立廠商得經各單位同意後,免繳或減繳。

聯絡窗口

卓文浩先生  03-5779911 分機 641  0609499@narlabs.org.tw
李靜宜小姐  03-5779911 分機 532  0309344@narlabs.org.tw

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公告日期

2016-05-05

技術名稱

電漿輔原子層沉積製程之間歇噴射電漿裝置
(專利號:中華民國新型專利M387707)

技術分類

半導體、材料製程

技術內容

本創作係有關於一種電漿輔原子層沉積製程之間歇噴射電漿裝置,其包含一噴射本體;一第一遮擋件, 其設於噴射本體下方且環繞形成環狀,其上分佈有複數個間隔之穿孔;一第二遮擋件,其環繞形成環 狀且設於第一遮擋件之下方,且第二遮擋件上分佈有複數個間隔之噴孔;及一動力旋轉裝置,可令該 第一遮擋件旋轉,進而讓穿孔與噴孔間歇性呈現相互對齊、交錯,而本創作透過簡單的機構作動配合 便可達到快速、高頻率開/關感應耦合電漿之噴射,且旋轉作動模式中,組件間不會產生相互的磨擦。

廠商資格

  1. 產業業別:半導體。
  2. 專門技術:具備半導體相關技術能力。
  3. 應有之機具設備:半導體技術相關設備。
  4. 應有之研究或技術人員人數: 10人
  5. 無片面毀約不良記錄者。

有意願之廠商請填妥本中心「技術移轉廠商開發計畫書」,並檢附下列文件影本,一式七份,以掛號方式郵寄至本中心統一窗口,作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書,並檢附公司相關證明文件影本,向各單位申請。其公司證明文件應包括:
 一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
 二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
 三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項(二)、(三)款之文件,新設立廠商得經各單位同意後,免繳或減繳。

聯絡窗口

卓文浩先生  03-5779911 分機 641  0609499@narlabs.org.tw
李靜宜小姐  03-5779911 分機 532  0309344@narlabs.org.tw

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公告日期

2016-05-05

技術名稱

封閉式流道反應槽系統製造觸媒或支撐材料的方法
(專利號:中華民國發明專利I498450)

技術分類

半導體、材料製程

技術內容

本發明提供一種封閉式流道反應槽系統,包含反應槽主體、前封蓋及後封蓋。本發明提供一種使用封 閉式流道反應槽系統製造觸媒或支撐材料的方法,其步驟包含:先將觸媒前驅物或支撐材料前驅物, 由該進口端注入該反應槽主體的各該封閉式流道內。再將惰性氣體經由該進口端注入,流經該等封閉 式流道,並由該出口端流出,以稀釋或移除多餘之該前驅物。最後,於該反應槽主體的該等封閉式流 道內進行沉積,形成觸媒或支撐材料。

廠商資格

  1. 產業業別:半導體。
  2. 專門技術:具備半導體相關技術能力。
  3. 應有之機具設備:半導體技術相關設備。
  4. 應有之研究或技術人員人數: 10人
  5. 無片面毀約不良記錄者。

有意願之廠商請填妥本中心「技術移轉廠商開發計畫書」,並檢附下列文件影本,一式七份,以掛號方式郵寄至本中心統一窗口,作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書,並檢附公司相關證明文件影本,向各單位申請。其公司證明文件應包括:
 一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
 二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
 三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項(二)、(三)款之文件,新設立廠商得經各單位同意後,免繳或減繳。

聯絡窗口

卓文浩先生  03-5779911 分機 641  0609499@narlabs.org.tw
李靜宜小姐  03-5779911 分機 532  0309344@narlabs.org.tw

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公告日期

2017-02-15

技術名稱

曝光機用廣波域特定波長衰減片製作技術

技術分類

半導體、光學元件製程

技術內容

調整曝光機用特定波長能量,用以改善曝光機光源能量穩定性,提昇現有微機電微影製程設備之性能。

廠商資格

  1. 產業業別:半導體或曝光機設備製造。
  2. 專門技術:具備曝光機設備製造維修相關技術能力。
  3. 應有之機具設備:半導體技術相關設備。
  4. 應有之研究或技術人員人數: 10人
  5. 無片面毀約不良記錄者。

有意願之廠商請填妥本中心「技術移轉廠商開發計畫書」,並檢附下列文件影本,一式七份,以掛號方式郵寄至本中心統一窗口,作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書,並檢附公司相關證明文件影本,向各單位申請。其公司證明文件應包括:
 一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
 二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
 三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項(二)、(三)款之文件,新設立廠商得經各單位同意後,免繳或減繳。

聯絡窗口

邱柏凱先生  03-5779911 分機 645  0509475@narlabs.org.tw
李靜宜小姐  03-5779911 分機 532  0309344@narlabs.org.tw

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公告日期

2017-02-15

技術名稱

光學式檢測儀應用於尿液自由基之檢測技術與方法

技術分類

醫療保健

技術內容

本技術應用於尿液自由基之檢測,包含檢測尿液自由基之技術參數及其檢測操作方式。

廠商資格

  1. 產業業別:醫療保健。
  2. 專門技術:無。
  3. 應有之機具設備:無。
  4. 應有之研究或技術人員人數: 2人
  5. 無片面毀約不良記錄者。

有意願之廠商請填妥本中心「技術移轉廠商開發計畫書」,並檢附下列文件影本,一式七份,以掛號方式郵寄至本中心統一窗口,作為評選會審查資料。 申請技術移轉廠商應填妥各單位技術移轉申請表及技術移轉廠商開發計畫書,並檢附公司相關證明文件影本,向各單位申請。其公司證明文件應包括:
 一、 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
 二、 經會計師認證之最近三年損益表及資產負債表。
 三、 營業稅或營利事業所得稅最近一期之繳款收據聯。
前項(二)、(三)款之文件,新設立廠商得經各單位同意後,免繳或減繳。

聯絡窗口

王俊勝先生  03-6676822 分機 3061  0509473@narlabs.org.tw
李靜宜小姐  03-5779911 分機 532  0309344@narlabs.org.tw

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參、技術移轉處理流程說明:

 請參考技術移轉處理流程說明