實驗室空間與提供服務

為促進產學研界ALD設備製程與前驅物研發能力,提升國內半導體產學界競爭優勢,本中心所成立 ALD 聯合實驗室規劃如圖一所示,圖二為可提供服務之ALD系統型式,並提供多種 ALD 薄膜製程與新穎前驅物驗證服務,其規格如表一所示。

表一、ALD系統規格

ALD系統 基板尺寸 基板溫度 提供材料
Test bed ALD系統 1吋 350 ℃ Al2O3、TiO2、HfO2、Zn(O,S)、Ta2O5、In2O3、SnO2、TaNx
研究型ALD系統 8吋 350 ℃ Al2O3、TiO2、HfO2
On-site ALD系統 12吋 350 ℃ Al2O3


儀科中心一樓平面圖

圖一、儀科中心一樓平面圖



ALD聯合實驗室提供服務之ALD系統型式。

圖二、ALD聯合實驗室提供服務之ALD系統型式